永磁吸盤(pán)工作狀態(tài)下，永磁體磁路變化過(guò)程如下：釹鐵硼永磁體的回復(fù)曲線，永磁體工作狀態(tài)變化是在回復(fù)曲線上變化。當(dāng)永磁吸盤(pán)處于開(kāi)路狀態(tài)時(shí)，永磁體的工作點(diǎn)以退磁曲線；當(dāng)永磁吸盤(pán)的工作極面與工件完全無(wú)縫隙接合時(shí)，此時(shí)，永磁體的磁通全部通過(guò)工件。在永磁吸盤(pán)靠近工件表面過(guò)程中，永磁吸盤(pán)遠(yuǎn)離工件，永磁體的工作狀態(tài)曲線很接近，永磁體的工作負(fù)載線有用回復(fù)能是永磁體工作點(diǎn)中的有用磁通密度B和退磁場(chǎng)強(qiáng)度H的乘積。永

永磁吸盤(pán)工作狀態(tài)下，永磁體磁路變化過(guò)程如下：

釹鐵硼永磁體的回復(fù)曲線，永磁體工作狀態(tài)變化是在回復(fù)曲線上變化。

當(dāng)永磁吸盤(pán)處于開(kāi)路狀態(tài)時(shí)，永磁體的工作點(diǎn)以退磁曲線；當(dāng)永磁吸盤(pán)的工作極面與工件完全無(wú)縫隙接合時(shí)，此時(shí)，永磁體的磁通全部通過(guò)工件。

在永磁吸盤(pán)靠近工件表面過(guò)程中，永磁吸盤(pán)遠(yuǎn)離工件，永磁體的工作狀態(tài)曲線很接近，永磁體的工作負(fù)載線有用回復(fù)能是永磁體工作點(diǎn)中的有用磁通密度B和退磁場(chǎng)強(qiáng)度H的乘積。永磁體的工作點(diǎn)，設(shè)計(jì)時(shí)接近回復(fù)曲線，起始點(diǎn)的有用回復(fù)能大。

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